ASML передает Intel первую систему литографии High NA стоимостью более $300 млн
Голландский производитель полупроводникового оборудования ASML заявил о поставке корпорации Intel первой из своих новых систем литографии в экстремальном ультрафиолете High NA.
Как ожидается, новые машины помогут производителям изготавливать меньшие по размеру и более быстрые полупроводниковые чипы. Стоимость каждой такой системы составляет более $300 млн ASML опубликовала в социальной сети X (ранее Twitter) изображение одного сегмента машины, отправляющейся из ее штаб-квартиры в Вельдховене, Нидерланды.
Оборудование поставляется в защитном контейнере, повязанном красной лентой. A decade of groundbreaking science and systems engineering deserves a bow! 🎀 We're excited and proud to ship our first High NA EUV system to @intel. ✈️🌎 pic.twitter.com/wtVn4fmq9D — ASML (@ASMLcompany) December 21, 2023 Как сообщают осведомленные источники, оборудование отправляется на завод Intel D1X в Орегоне.
Читать на itc.ua
