Уже в ближайшем будущем японская корпорация собирается улучшить техпроцесс до 2-нм, к тому же ее установка гораздо проще, чем громоздкие системы от ASML.
Компания Canon на своем официальном сайте сегодня объявила о создании новейшей системы "наноимпринтной литографии" FPA-1200NZ2C.
Эта система позволит компании производить чипы по 5-нм техническому процессу, а в ближайшем будущем уменьшить их значение до 2-нм.
Читать на focus.ua